fnctId=device,fnctNo=0
| 제품사진 | |
|---|---|
| 기기명(한글) | 전자빔 리소그래피장비 |
| 기기명(영문) | E-beam Lithography |
| 모 델 | S-3000H |
| 제작사 | Hitachi |
| 도입시기 | 2006 |
| 담당자 | 나노전자 나노역학 연구실 / 정현정 (4755) |
| 장소 | A동 227-2호 |
| 사 용 료 |
교내 : 50,000원/시간 |
| 특기사항 | 본 전자빔 리소그래피 장비는 scanning electron microscope과 pattern generator로 구성되어 있다. 본 장비를 통해 가속된 전자빔을 이용한 나노미터 수준의 미세패턴을 형상화할 수 있으며, 마이크로/나노 스케일 소자 및 마스크 제작에 활용될 수 있다. 본 장비는 배율 15 - 300k X, 가속전압 10 - 30 kV, 로딩 가능한 시편크기 직경 150 mm의 성능을 제공한다. |
| 원리 | E-beam lithography는 전자빔감광제를 도포한 시료 면에 전자빔을 조사하여 감광제를 구성하는 고분자를 결합 또는 절단함으로써 시료 면상에 감광제 패턴을 형성하는 기술로 나노미터 수준의 크기를 갖는 패턴제작시 사용된다. |
| 유저그룹 |
이상욱 교수님 |
| 다른기기보기 |